鍍膜鍍膜鍍膜2021/5/20 15:40:01 · LPCVD(低壓化學氣相沉積) SiNx,片內(nèi)均勻性:<±5% · PECVD(等離子增強 化學氣相沉積) SiO?,SiNx,a-Si(B,P,Ge摻雜) · ICPCVD(感應耦合 化學氣相沉積) SiO?,SiNx,SiC(低溫、低應力鍍膜) · PEALD(原子層沉積) Al2O3、HfO2、AlN · 光學鍍膜 SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3 · PVD(濺射沉積) Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb · 電子束蒸發(fā) Ti,Al,Ni,Ag,Cu,Cr,Sn,Pt,AuGe · 熱蒸發(fā) Sn,AuSn,Ag,Au,In,Al,Cr,Cu,Ti |